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Comprendre et maîtriser le passage de type I à type II de puits quantiques d'In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y) sur substrat de GaSb

机译:了解并掌握GaSb衬底上In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y)从I型到II型量子阱的转变

摘要

Les antimoniures sont des semi-conducteurs III-V prometteurs pour le développement de dispositifs optoélectroniques puisqu'ils ont une grande mobilité d'électrons, une large gamme spectrale d'émission ou de détection et offrent la possibilité de former des hétérostructures confinées dont la recombinaison est de type I, II ou III. Bien qu'il existe plusieurs publications sur la fabrication de dispositifs utilisant un alliage d'In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y) qui émet ou détecte à une certaine longueur d'onde, les détails, à savoir comment sont déterminés les compositions et surtout les alignements de bande, sont rarement explicites. Très peu d'études fondamentales sur l'incorporation d'indium et d'arsenic sous forme de tétramères lors de l'épitaxie par jets moléculaires existent, et les méthodes afin de déterminer l'alignement des bandes des binaires qui composent ces alliages donnent des résultats variables.Un modèle a été construit et a permis de prédire l'alignement des bandes énergétiques des alliages d'In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y) avec celles du GaSb pour l'ensemble des compositions possibles. Ce modèle tient compte des effets thermiques, des contraintes élastiques et peut aussi inclure le confinement pour des puits quantiques. De cette manière, il est possible de prédire la transition de type de recombinaison en fonction de la composition.Il est aussi montré que l'indium ségrègue en surface lors de la croissance par épitaxie par jets moléculaires d'In(x)Ga(1-x)Sb sur GaSb, ce qui avait déjà été observé pour ce type de matériau. Il est possible d'éliminer le gradient de composition à cette interface en mouillant la surface d'indium avant la croissance de l'alliage. L'épaisseur d'indium en surface dépend de la température et peut être évaluée par un modèle simple simulant la ségrégation. Dans le cas d'un puits quantique, il y aura une seconde interface GaSb sur In(x)Ga(1-x)Sb où l'indium de surface ira s'incorporer. La croissance de quelques monocouches de GaSb à basse température immédiatement après la croissance de l'alliage permet d'incorporer rapidement ces atomes d'indium et de garder la seconde interface abrupte.Lorsque la composition d'indium ne change plus dans la couche, cette composition correspond au rapport de flux d'atomes d'indium sur celui des éléments III. L'arsenic, dont la source fournit principalement des tétramères, ne s'incorpore pas de la même manière. Les tétramères occupent deux sites en surface et doivent interagir par paire afin de créer des dimères d'arsenic. Ces derniers pourront alors être incorporés dans l'alliage. Un modèle de cinétique de surface a été élaboré afin de rendre compte de la diminution d'incorporation d'arsenic en augmentant le rapport V/III pour une composition nominale d'arsenic fixe dans l'In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y). Ce résultat s'explique par le fait que les réactions de deuxième ordre dans la décomposition des tétramères d'arsenic ralentissent considérablement la réaction d'incorporation et permettent à l'antimoine d'occuper majoritairement la surface. Cette observation montre qu'il est préférable d'utiliser une source de dimères d'arsenic, plutôt que de tétramères, afin de mieux contrôler la composition d'arsenic dans la couche.Des puits quantiques d'In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y) sur GaSb ont été fabriqués et caractérisés optiquement afin d'observer le passage de recombinaison de type I à type II. Cependant, celui-ci n'a pas pu être observé puisque les spectres étaient dominés par un niveau énergétique dans le GaSb dont la source n'a pu être identifiée. Un problème dans la source de gallium pourrait être à l'origine de ce défaut et la résolution de ce problème est essentielle à la continuité de ces travaux.
机译:锑化物具有很高的电子迁移率,较宽的发射或检测光谱范围,并有可能形成包括重组在内的受限异质结构,因此有望用于光电子器件的开发。是I,II或III型。尽管使用In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y)合金以一定波长发射或检测某种波长的器件制造器件的出版物很多,很少解释细节,即如何确定组成,尤其是条带对准。很少有关于通过分子射流外延过程中以四聚体形式掺入铟和砷的基础研究,而确定组成这些合金的二元能带排列的方法给出了建立了一个模型,可以预测In(x)Ga(1-x)As(y)Sb(1-y)与GaSb合金的能带排列。可能的成分集。该模型考虑了热效应,弹性应力,并且还可以包括对量子阱的限制。通过这种方式,可以根据组成预测从复合类型的转变,并且还表明铟的生长过程中,In(x)Ga(1 -x)GaSb上的Sb,这种材料已经被观察到。通过在合金生长之前润湿铟表面,可以消除该界面处的成分梯度。表面上铟的厚度取决于温度,可以通过模拟偏析的简单模型进行评估。在量子阱的情况下,In(x)Ga(1-x)Sb上将有第二个GaSb界面,表面铟将被并入其中。合金生长后立即在低温下生长几个GaSb单层,可以使这些铟原子迅速结合并保持第二界面的突然变化。组成对应于铟原子与元素III的通量之比。砷的来源主要提供四聚体,因此砷的掺入方式不同。四聚体占据两个表面位点,并且必须成对相互作用以产生砷二聚体。然后可以将它们掺入合金中。已开发出表面动力学模型,以通过增加In(x)Ga(1-x)中固定砷的名义成分的V / III比来解决砷掺入减少的问题。作为(y)Sb(1-y)。该结果由以下事实解释:砷四聚物的分解中的二级反应大大减慢了掺入反应,并使锑占据了大部分表面。该观察结果表明,为了更好地控制该层中砷的组成,最好使用砷二聚体而不是四聚体。In(x)Ga(1- x)制备GaSb上的As(y)Sb(1-y)并进行光学表征,以观察从I型向II型重组的转变。但是,由于光谱由无法确定其来源的GaSb中的能级决定,因此无法观察到。镓源中的问题可能是造成此缺陷的原因,而解决该问题对于这项工作的连续性至关重要。

著录项

  • 作者

    Gélinas Guillaume;

  • 作者单位
  • 年度 2015
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  • 正文语种 fr
  • 中图分类

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