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The influence of crystallographic orientation on the wetting of silicon on quartz single crystals

机译:晶体学取向对石英单晶硅硅润湿的影响

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摘要

Dynamic hexagonal spreading patterns of small silicon droplets on the basal plane (001) of quartz were observed by video microscopy. A detailed analysis of the hexagonal triple line demonstrates that the patterns show slight chiral distortions that can be attributed to the screw axis of the substrate crystal. This article reveals the detailed influence of crystal symmetry on the anisotropy of reactive wetting. In this context, a first discussion about the interplay of wetting and etching of a crystal is provided.
机译:通过视频显微镜观察到石英基面(001)上的小硅滴的动态六角形扩展图案。对六边形三重线的详细分析表明,这些图案显示出轻微的手性变形,这可归因于基质晶体的螺旋轴。本文揭示了晶体对称性对反应性润湿各向异性的详细影响。在这种情况下,提供了关于晶体的润湿和蚀刻相互作用的第一讨论。

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