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The Etching Properties of Indium Tin Oxide Thin Films in O2/BCl3/Ar Gas Mixture Using Inductively Coupled Plasma

机译：使用电感耦合等离子体蚀刻O2 / Bcl3 / Ar气体混合物中氧化铟锡氧化物薄膜的蚀刻性能

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Jae-Hyung Wi; Jong-Chang Woo; Chang-Il Kim;
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年度 2010
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