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机译:使用倾斜溅射靶和未电流基板支架制备W-ALNTHIN膜
Anis Suhaili Bakri; Nafarizal Nayan; Mohd Khairul Ahmad; Soon Chin Fhong; Mohd Zainizan Sahdan; Ahmad Shuhaimi Abu Bakar; Wan Haliza Abdul Majid; Muliana Tahan; Nur Amaliyana Raship; Mohd Yazid Ahmad;
机译:在不同衬底温度下通过四元靶离子束溅射沉积制备Cu(In,Ga)Se_2薄膜
机译:靶控自热磁控溅射低衬底温度制备高性能金属氧化物薄膜
机译:溅射沉积的旋转基板保持器,用于薄铜膜的有效生长
机译:倾斜式光纤布拉格光栅传感器。在监测纳米金属膜化学制造中的应用。
机译:射频磁控溅射在SrTiO3(100)衬底上制备多铁共取代BiFeO3外延膜
机译:直流反应溅射技术研究衬底温度和靶-衬底距离对TiO2薄膜生长的影响
机译:通过移动与基板相对的目标,在基板表面上形成具有均匀胶片质量的胶片的源,使用该源来进行溅射的装置,以及使用该仪器而进行的溅射方法
机译:通过溅射沉积衬底的薄膜保持器,并使用相同的方法制备光掩膜坯
机译:溅射靶材,用于加热电阻器的基材膜以及通过使用这些膜的靶材和热敏打印机头形成的耐磨膜
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