Image Processing; Materials; Surface Area; Meetings; Nondestructive Analysis; Technology Assessment;
机译:探索正性化学放大抗蚀剂的极限分辨率:使用极端紫外线干涉光刻技术的26 nm密集线
机译:使用13.5 nm和172 nm辐射清洗极端紫外线光刻光学器件和掩模
机译:草酸铂和钯:正性极紫外光抗蚀剂
机译:氨基硅烷作为硅烷化剂,用于干法开发的用于深紫外(248 nm)和远紫外(13.5 nm)微光刻的正性抗蚀剂
机译:激光产生的Sn等离子体的主要13.5 nm带内极紫外发射区的动力学和操纵。
机译:在具有不同修复能力的大肠杆菌菌株中近紫外光(313-405 nm)和远紫外光(254 nm)之间的诱变和相互作用比较。
机译:探索模拟放大抗蚀剂的极限分辨率:使用极端紫外线光刻的26nm致密线