Germanium Silicides; Dislocations; Interfaces; Layers; Morphology; Silicon; Thickness; EDB/360602;
机译:低温(300-400℃)分子束外延生长的异质结构Ge_xSi_(1-x)/ Si(001):错配位错传播
机译:控制低菌株Si_(1-x)Ge_x / Si(001)层的弛豫机制,通过提供预先存在的位错源来降低线程位错密度
机译:应变放松GE_(1-X-Y)SI_XSN_Y / GE_(1-X)SN_X / GE_X / GE_(1-X-Y)SI_XSN_Y在硼 - 离子注入的GE(001)衬底上的双异质结构的形成和光电性
机译:低误操作GE_XSI_(1-X)/ SI(001)接口处的爬升/滑移位错源
机译:离子表面上物理吸附的双原子分子的结构,稳定性和相变的计算机模拟:一氧化碳/氧化镁(001),氮/氧化镁(001)和氮/氯化钠(001)系统。
机译:通过CMOS兼容的悬浮结构电隔离Si(001)衬底上Ge层中的位错
机译:[001] IN0.1GA0.9AS / GAAS单异质结构中与应变界面有关的错位错位几何
机译:在(001)si上的Ge(x)si(1-x)外延层中的位错行为。