Mechanical properties ; Thin films ; Atomic layer epitaxy ; Brittleness ; Chemicals ; Coatings ; Coefficients ; Curvature ; Detectors ; Electric current ; Estimates ; Expansion ; Fracture(Mechanics) ; Hardness ; Heating ; Hygrometers ; Indicators ; Leakage(Electrical) ; Numerical analysis ; Oxides ; Reprints ; Stresses ; Substrates ; Tensile stress ; Thermal properties ; Thermomechanics ; Thickness ; Toughness ; Variations ; Wafers;
机译:使用原子层沉积技术产生的氧化铝膜的热机械性能
机译:通过在Si(100)衬底上进行原子层沉积制备的100 nm厚氧化铝膜的机械和摩擦学性能
机译:通过原子层沉积制备的掺铋氧化铝膜中增强的介电性能
机译:氮增加的等离子体增强原子层沉积对铝膜电学性能的改善
机译:使用原子和分子层沉积技术沉积的无机和杂化有机-无机薄膜的生长,表征和后处理。
机译:组成界面和沉积顺序对原子层沉积在硅上生长的纳米Ta2O5-Al2O3薄膜电学性能的影响
机译:氧化铝添加对二氧化钛薄膜的光学性质和热稳定性的影响及原子层沉积产生的逆蛋白