Distortion; High strength; Structures; X rays; Protective masks; Alignment; Architecture; Damage; Frames; Handling; Light; Manufacturing; Materials; Membranes; Numbers; Processing; Radiation; Repair; Requirements; Risk; Semiconductors; Wafers; Reprints;
机译:通过以氮化硅为掩模对硅边缘进行局部氧化来制造纳米脊
机译:通过以氮化硅为掩模对硅边缘进行局部氧化来制造纳米脊
机译:化学气相渗透法制备氮化硅颗粒增强氮化硅基复合材料的设计,制备和表征
机译:用于难熔X射线掩模制造的氮氧化物硬掩模去除工艺的表征
机译:多晶硅-氮氧化物-氧化硅(SONOS)非易失性半导体存储器件的设计,制造和表征。
机译:使用纳米簇掩模在氮化硅上制备抗反射亚波长结构用于太阳能电池应用
机译:通过用氮化硅作为掩模局部氧化硅边缘来制造纳米脊
机译:硅膜X射线光刻掩模的制造方法。