Etching; Fluorine; Surface reactions; Silicon; Adsorbates; Layers; Reprints; Simulation; Surfaces; Gases; Wafers; Melting;
机译:XeF_2与氟化Si(100)反应的机理和动力学:表面反应产物的气相离解在无等离子体蚀刻中的可能作用
机译:氟化水溶液中的Si(100)蚀刻:平行蚀刻反应会导致pH依赖的Nanohillock形成或原子平面
机译:原位监测使用氢等离子体和氟基团的原子层蚀刻氮化硅的原子层蚀刻
机译:氟碳等离子体蚀刻的表面和气相反应Si和SiO 2 sub>
机译:扫描隧道显微镜和密度泛函理论研究卤素在硅(100)表面的动力学和蚀刻反应。
机译:表面热点处的反应和弛豫:使用分子动力学和能量粒度主方程来描述金刚石蚀刻
机译:用于具有部分氟化的si(100)表面的F2反应的从头算起源的动力学:作为可能的蚀刻工具的平移活化