机译:RIMS(通过光散射进行实时压印监控)研究压力,温度和抗蚀剂对纳米压印光刻的影响
机译:RIMS(通过光散射进行实时压印监控)研究压力,温度和抗蚀剂对纳米压印光刻的影响
机译:模具几何形状和印迹聚合物抗蚀剂厚度对超声纳米压印光刻的影响
机译:纳米压印光刻中抗蚀剂时间演变曲线的压力和抗蚀剂厚度依赖性
机译:模具几何形状的影响和压印抗蚀剂厚度对纳米压印光刻的速度场
机译:分步和快速压印光刻:低压,室温纳米压印光刻。
机译:使用具有各种微/纳米比的印模进行的紫外线纳米压印光刻的抗蚀剂填充研究
机译:压印压力对紫外线印刷光刻中残余层厚度的影响