机译:UV纳米压印光刻技术中残留层厚度的均质性
机译:适用于均匀层和最小残留层的UV固化纳米压印光刻
机译:模具几何形状和压印抗蚀剂厚度对纳米压印光刻速度场的影响
机译:温度对热纳米压印光刻中残留层厚度的影响研究
机译:分步和快速压印光刻:低压,室温纳米压印光刻。
机译:基于UV纳米压印光刻和热压印的二维二氧化硅光子晶体的偏振调制与制备方法
机译:纳米压印光刻中的印模偏转的建模和模拟:利用背面凹槽来增强残留层厚度均匀性
机译:聚合物膜厚度和腔体尺寸对压花过程中聚合物流动的影响:纳米压印光刻的工艺设计规则