机译:氮化硼不平衡磁控溅射靶上施加的射频功率对立方氮化硼薄膜沉积的影响
cubic boron nitride; sputtering; residual stress; crystal structure; Fourier transformed infrared spec-troscopy;
机译:氮化硼不平衡磁控溅射靶上施加的射频功率对立方氮化硼薄膜沉积的影响
机译:沉积温度对不平衡磁控溅射纳米晶金刚石缓冲层沉积立方氮化硼薄膜的影响
机译:添加到氩氮溅射气体中的氢含量和衬底偏置电压的参数空间,以通过不平衡磁控溅射法形成立方氮化硼薄膜
机译:磁控溅射沉积立方氮化硼:过程诊断和膜表征
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:通过r.f.电子辅助沉积立方氮化硼磁控溅射
机译:射频磁控溅射电子辅助沉积立方氮化硼