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【24h】

Control of Sidewall Angles Using UV LEDs during Wet Etching of GaAs

机译:GaAs湿法刻蚀过程中使用UV LED控制侧壁角度

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摘要

The ultraviolet (UV) light induced wet etching for micro-optical electromechanical systems applications produces a range of sidewall angles depending on the relative contributions of photo and chemical dissolution. The technique uses recently developed multi-element UV light emitting diodes (LEDs) that feature broad area coverage and relatively low cost compared with laser-based systems. The UV LED illumination creates sidewall profiles with angles ranging from 55 deg to 90 deg by changing the oxidizer content and the light intensity.
机译:紫外线(UV)诱导的微光学机电系统应用的湿法蚀刻取决于光和化学溶解的相对贡献,会产生一定范围的侧壁角度。该技术使用最近开发的多元素紫外发光二极管(LED),与基于激光的系统相比,该器件具有宽广的覆盖范围和相对较低的成本。 UV LED照明通过改变氧化剂含量和光强度来创建侧壁轮廓,其角度范围从55度到90度。

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