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Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII
Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII
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1.
Role of ellipsometry in DPT process characterization and impact of performance for contact holes
机译:
椭圆偏振法在DPT工艺表征中的作用以及对接触孔性能的影响
作者:
Itaru Kamohara
;
Vitaliy Domnenko
;
Alexander Philippou
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
2.
RegC: a new registration control process for photomasks after pattern generation
机译:
RegC:图案生成后用于光掩模的新注册控制过程
作者:
Erez Graitzer
;
Guy Ben-Zvi
;
Avi Cohen
;
Dmitriev Vladimir
;
Dan Avizemer
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
3.
193-nm radiation durability study of MoSi binary mask and resulting lithographic performance
机译:
MoSi二元掩模的193 nm辐射耐久性研究及光刻性能
作者:
Isabelle Servin
;
Jérôme Belledent
;
Laurent Pain
;
Brid Connolly
;
Martin Sczyrba
;
Matt Lamantia
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
4.
Front Matter: Volume 8081
机译:
前题:第8081卷
作者:
SPIE
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
5.
Growth mechanism and inhibition technologies of a contamination on the surface of photomask for longtime LCD-TFT lithography process
机译:
长时间LCD-TFT光刻工艺中光掩模表面污染物的生长机理和抑制技术
作者:
Makoto Murai
;
Masayoshi Tsuchiya
;
Hiroyuki Shinchi
;
Terumasa Hirano
;
Shintaro Kitajima
;
Yasushi Kaneko
;
Takahisa Kimoto
;
Shigeki Takayama
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
6.
Particle free pellicle mounting inside of the large size photomask inspection system
机译:
大型光罩检查系统内部无颗粒薄膜的安装
作者:
Makoto Yonezawa
;
Seiki Matsumoto
;
Dongsheng Zhang
;
Kohei Hashimoto
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
7.
Improvement of polymer type EB resist sensitivity and line edge roughness
机译:
改善聚合物EB型抗蚀剂的敏感性和线边缘粗糙度
作者:
Makoto Otani
;
Hironori Asada
;
Hosei Tsunoda
;
Masashi Kunitake
;
Takehiko Ishizaki
;
Ryuji Miyagawa
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
8.
22nm node ArF lithography performance improvement by utilizing mask 3D topography: controlled sidewall angle 22nm node ArF lithography performance improvement by utilizing mask 3D topography: controlled sidewall angle
机译:
利用掩模3D形貌改善22nm节点ArF光刻性能:可控侧壁角 r n利用掩模3D形貌改善22nm节点ArF光刻性能:可控侧壁角
作者:
Hiroshi Watanabe
;
Kei Mesuda
;
Katsuya Hayano
;
Eiji Tsujimoto
;
Hideyoshi Takamizawa
;
Toshio Ohhashi
;
Naruo Sakasai
;
Shintaro Kudo
;
Tomoyuki Matsuyama
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
9.
Mask data processing technique using GPU for reducing computer cost
机译:
使用GPU的掩模数据处理技术可降低计算机成本
作者:
Ryo Tsujimura
;
Kozo Ogino
;
Hiromi Hoshino
;
Shigeo Satoh
;
Kazumasa Morishita
;
Satoshi Yoshikawa
;
Hiroki Futatsuya
;
Tatsuo Chijimatsu
;
Satoru Asai
;
Satoshi Yamauchi
;
Tomoyuki Okada
;
Naoyuki Ishiwata
;
Motoshu Miyajima
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
10.
The coherent EUV scatterometry microscope for actinic mask inspection and metrology
机译:
用于光化掩模检查和计量的相干EUV散射显微镜
作者:
Tetsuo Harada
;
Masato Nakasuji
;
Teruhiko Kimura
;
Yutaka Nagata
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
11.
In-die job automation for PROVE
机译:
用于PROVE的模内作业自动化
作者:
Ronald J. Lesnick
;
Jr.
;
Stephen Kim
;
Matthias Waechter
;
Dirk Seidel
;
reas Mueller
;
Dirk Beyer
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
12.
Model-based mask data preparation (MB-MDP) for ArF and EUV mask process correction
机译:
用于ArF和EUV掩模工艺校正的基于模型的掩模数据准备(MB-MDP)
作者:
Kazuyuki Hagiwara
;
Ingo Bork
;
Aki Fujimura
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
13.
Binary 193nm photomasks aging phenomenon study
机译:
193nm二元光掩模老化现象研究
作者:
Félix Dufaye
;
Luca Sartelli
;
Carlo Pogliani
;
Stuart Gough
;
Frank Sundermann
;
Hiroyuki Miyashita
;
Yoshioka Hidenori
;
Nathalie Charras
;
Christophe Brochard
;
Nicolas Thivolle
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
14.
Mask blank material optimization impact on leading-edge ArF lithography
机译:
掩模坯料优化对前沿ArF光刻的影响
作者:
Kei Mesuda
;
Hiroshi Watanabe
;
Katsuya Hayano
;
Eiji Tsujimoto
;
Hideyoshi Takamizawa
;
Toshio Ohhashi
;
Naruo Sakasai
;
Shintaro Kudo
;
Tomoyuki Matsuyama
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
15.
Collaborative research on emerging technologies and design
机译:
新兴技术与设计的合作研究
作者:
Andrew R. Neureuther
;
Juliet Rubinstein
;
Marshal Miller
;
Kenji Yamazoe
;
Eric Chin
;
Cooper Levy
;
Lynn Wang
;
Nuo Xu
;
Costas Spanos
;
Kun Qian
;
Kameshwar Poolla
;
Justin Ghan
;
Anand Subramanian
;
Tsu-Jae King Liu
;
Xin Sun
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
16.
Evaluation of process variations on OPC model predictions
机译:
根据OPC模型预测评估过程变化
作者:
James Oberschmidt
;
Samit Barai
;
Tamer Desouky
;
Om Prakash Jaiswal
;
Aditya Padmawar
;
Ramana Murthy Pusuluri
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
17.
New yield-aware mask strategies
机译:
新的收益感知蒙版策略
作者:
Kwangok Jeong
;
rew B. Kahng
;
Christopher J. Progler
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
18.
Advancing the charging effect correction with time-dependent discharging model
机译:
随时间变化的放电模型推进充电效果校正
作者:
Noriaki Nakayamada
;
Takashi Kamikubo
;
Hirohito Anze
;
Shuichi Tamamushi
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
19.
EB resolution capability with CP exposure
机译:
具有CP曝光的EB解析能力
作者:
Masaki Kurokawa
;
Hideaki Isobe
;
Kenji Abe
;
Yoshihisa Oae
;
Akio Yamada
;
Shogo Narukawa
;
Mikio Ishikawa
;
Hiroshi Fujita
;
Morihisa Hoga
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
20.
Practical mask inspection system with printability and pattern priority verification
机译:
实用的口罩检查系统,具有可打印性和图案优先权验证
作者:
Hideo Tsuchiya
;
Fumio Ozaki
;
Kenichi Takahara
;
Takafumi Inoue
;
Nobutaka Kikuiri
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
21.
New CD-SEM metrology method for the side wall angle measurement using multiple detectors
机译:
使用多个探测器测量侧壁角度的新CD-SEM计量方法
作者:
Hiroshi Fukaya
;
Tsutomu Murakawa
;
Soichi Shida
;
Masayuki Kuribara
;
Toshimichi Iwai
;
Jun Matsumoto
;
Takayuki Nakamura
;
Hidemitsu Hakii
;
Isao Yonekura
;
Masashi Kawashita
;
Yasushi Nishiyama
;
Keishi Tanaka
;
Yasutaka Kikuchi
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
22.
MRC optimization for EUV high NA imaging for the 32-nm HP technology node
机译:
针对32纳米HP技术节点的EUV高NA成像的MRC优化
作者:
Shih-En Tseng
;
Alek Chen
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
23.
Defect printability of advanced binary film photomask
机译:
高级二元膜光掩模的可印刷性不良
作者:
Masato Naka
;
Shinji Yamaguchi
;
Keiko Morishita
;
Shingo Kanamitsu
;
Ryoji Yoshikawa
;
Hiromitsu Mashita
;
Takashi Hirano
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
24.
Elimination of lithographic hotspots which have been waived by means of pattern matching
机译:
消除了通过图案匹配免除的光刻热点
作者:
Aditya Chaudhary
;
Pierre Bouchard
;
Kalpesh Dave
;
Tamer Desouky
;
Karim Moamen
;
Mark Simmons
会议名称:
《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
25.
Efficient method for SRAF rule determination
机译:
SRAF规则确定的有效方法
作者:
Ramana Murthy V. M. Pusuluri
;
Pavan Y. Bashaboina
;
James M. Oberschmidt
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《Photomask and next-generation lithography mask technology XVIII》
|
2011年
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