机译:使用氮化硅隔离层的再生长源/漏InGaAs MOSFET
机译:使用氮化硅隔离层的再生长源/漏InGaAs MOSFET
机译:鳍片宽度取决于源极/漏极重新生长的InGaAs沟道FinFET的栅极可控性
机译:带有凹进并选择性再生的Si1-xGex源/漏结的pMOSFET
机译:具有重新生长的源极/漏极的16nm InGaAs沟道多栅极MOSFET的操作
机译:具有再生源极-漏极区和ALD介电层的最后栅极铟镓砷MOSFET。
机译:使用DoE-Taguchi方法优化氮化硅(Si3N4)-六方氮化硼(hBN)复合材料的磨损损失
机译:InGaAs n-MOSFET的源/漏工程,用于逻辑器件应用
机译:具有镍合金源/漏极的基于锑化物的异质结构p沟道mOsFET。