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机译:衬底偏置电压对中频反应磁控溅射沉积氮化锆(ZrN)薄膜物理性能的影响
Zirconium Nitride thin films; Mid frequency sputtering; XRD; Vickers hardness; AFM;
机译:衬底偏置电压对中频反应磁控溅射沉积氮化锆(ZrN)薄膜物理性能的影响
机译:基板偏压对反应磁控溅射沉积沉积的ZrO2薄膜结构,机械和腐蚀性能的影响
机译:添加到氩氮溅射气体中的氢含量和衬底偏置电压的参数空间,以通过不平衡磁控溅射法形成立方氮化硼薄膜
机译:通过用线性气体离子源和偏置电压沉积和表征氮化锆(ZrN)薄膜薄膜溅射
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:基板偏置电压对射频磁控溅射沉积的氮化铪膜性能的影响通过电感耦合氮等离子体辅助辅助