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牟宗信; 刘升光; 王振伟; 公发权; 贾莉; 牟晓东;
大连理工大学三束材料改性实验室,物理与光电工程学院,辽宁,大连,116024;
氮化铝; 形貌; 折射率; 磁控溅射;
机译:r沉积非晶氧化铝薄膜的精细表征和介电性能研究。 F。磁控溅射
机译:等离子体对反应性中频脉冲磁控溅射制备的铟锡氧化物薄膜性能和结构的影响
机译:RF磁控溅射沉积的氮化铝(ALN)薄膜的微观结构和纳米力学性能
机译:中频脉冲磁控溅射制备AIN薄膜的力学和结构性能研究
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:磁控溅射沉积SrTiO3薄膜的纳米结构和光学性能研究
机译:RF磁控溅射溅射压力沉积抗氮锌薄膜性能研究
机译:分子层沉积法制备氧化铝(alucone)薄膜的热机械性能
机译:氧化铝薄膜的沉积方法和氮化铝薄膜的沉积方法
机译:磁控溅射枪和磁控溅射薄膜沉积装置
机译:磁控溅射系统及通过磁控溅射薄膜沉积的方法
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