机译:等离子体对反应性中频脉冲磁控溅射制备的铟锡氧化物薄膜性能和结构的影响
Institute of Ion Beam Physics and Materials Research, Forschungszentrum Rossendorf, P.O. Box 510119, 01314 Dresden, Germany;
indium tin oxide; plasma processing and deposition; electrical properties and measurements; optical properties;
机译:调整脉冲直流磁控溅射铟锡氧化物薄膜的电光性能:脉冲频率和退火的影响
机译:电子束和射频磁控溅射法对铟锡氧化物薄膜进行射频H_2O等离子体处理
机译:采用单极脉冲和等离子体发射反馈系统的反应磁控溅射高速率沉积掺锡的氧化铟薄膜
机译:粉末靶脉冲磁控溅射制备的锡掺杂氧化铟膜的性质
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:通过具有单极脉冲和等离子体发射反馈系统的反应磁控溅射高速沉积锡掺杂的氧化铟薄膜