离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能

田林海; 宗瑞磊; 朱晓东; 唐宾; 何家文

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离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能

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应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响.结果表明:在相同的轰击能量(400eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离子辅助轰击能量从400 eV增加到800 eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高.

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来源
《机械工程材料》|2006年第5期|30-32|共3页
作者
田林海; 宗瑞磊; 朱晓东; 唐宾; 何家文;
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作者单位

西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049;

太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024;

西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049;

西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049;

太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024;

西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类机械性能（力学性能）;
关键词
离子束辅助磁控溅射; 铬-铜-氮薄膜; 硬度; 断裂韧度;

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