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赵嘉学; 王军生;
核工业西南物理研究院;
等离子体发射监控系统; 中频孪生靶反应溅射; 迟滞曲线; 设定值;
机译:具有双阴极的中频模式反应溅射过程的等离子体发射控制,以沉积光催化TiO_2薄膜
机译:反应磁控溅射单极脉冲和等离子体发射控制系统沉积的光催化TiO_2薄膜
机译:在线反应中频磁控溅射沉积ZnO:Al薄膜的研究
机译:氮化钛薄膜沉积期间反应磁控溅射等离子体中的氮气发射
机译:TiO_2薄膜的反应溅射沉积工艺分析参见用法统计
机译:反应堆磁控溅射沉积p型缺铜Cu Cr0.95-xMg0.05 O2薄膜的光电性能
机译:反应等离子体沉积薄膜的研究。
机译:双磁控溅射装置用于大面积反应等离子体增强沉积,例如用于太阳能吸收器的金属条上的光吸收层或窗户玻璃上的热反射层
机译:等离子体发生器和用于薄膜沉积的反应室,包括该等离子体发生器和反应室
机译:使用等离子体的气相沉积反应器和使用该气相沉积反应器形成薄膜的方法
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