机译:使用单一源前体的等离子体增强铪硅酸铪薄膜的原子层沉积
ALD; Dual cation precursor; Dielectric; HfSiO; HfSiOx;
机译:使用单一源前体的等离子体增强铪硅酸铪薄膜的原子层沉积
机译:基于机器学习的氧化铪氧化膜的等离子体增强原子层沉积的模拟与运行
机译:使用Hf [N(CH_3)(C_2H_5)] _ 4和SiH [N(CH_3)_2] _3前驱体对硅酸Gate栅介电膜进行原子层沉积
机译:HfCl_2 N(SiMe_3)_2 _2在硅酸薄膜上的原子层沉积
机译:金属有机化学气相沉积和原子层沉积方法,用于从二烷基酰胺前体中生长ha基薄膜,用于高级CMOS栅极堆叠应用
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集