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【24h】

ミニマルマスクレス露光装置:フォトリソグラフィーの低ランニングコストを実現

机译:最小无掩模曝光装置:实现光刻的低运行成本

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摘要

半導体産業の根本的な課題の一つである長納期かつ高額なマスクやレチクルを不要とし、ミニマル規格に準拠した、光源にLEDを採用した超小型紫外光マスクレス露光装置を開発した。これによってデバイス設計から試作までが短期間かつ低コストで可能となる。
机译:有必要消除半导体行业的潜在问题之一,并开发了一种超小型紫外线 - 无掩模曝光装置,其在符合最小标准的光源中采用LED。 这允许短时间内且以低成本直到设备设计。

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