...
机译:残余氯在CVD型栅极电极对氧化物可靠性的影响
asteur.ivic.ve;
asteur.ivic.ve;
Metal gate; TiN; CVD; Cl; Gate leakage current; Gate oxide reliability;
机译:残余氯在CVD型栅极电极对氧化物可靠性的影响
机译:分析由于氧化物陷阱引起的栅极漏电流的自修复,以提高栅电极的可靠性
机译:多层石墨烯作为栅电极用于金属氧化物半导体场效应器件应用的功函数调整和改进的栅介电可靠性
机译:电极对栅极氧化物可靠性的影响:隔离和栅极堆叠工艺的示例
机译:二氧化ha与多晶硅栅和双金属(钌-钽合金,钌)栅电极的界面工程和可靠性特性,适用于65 nm以上的技术。
机译:有雾的基于二氧化氯和过氧化氢的消毒剂在难以达到的表面上对人诺如病毒及其替代物猫杯状病毒的杀病毒活性。
机译:自动插入双门以提高栅氧化层击穿的可靠性