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表面プラズモン共鳴によるInGaN/GaN多重量子井戸の発光増強

机译:用表面等离子体共振的Ingan / GaN多量子阱的发光增强

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摘要

我々は2004年に,プラズモニクスの技術を高効率LEDの分野へ応用し,Agのランダムグレイン構造によってInGaN系発光材料表面の発光強度を約14倍まで大きく増強できることを実証した[1].プラズモニクスとは金属/誘電体界面に発生する電子の集団的振動である表面プラズモン(SP)を制御し,ナノ光導波路などに利用する近年注目を集めている技術である.金属/誘電体界面の表面波は表面プラズモンポラリトン(SPP)と呼ばれ,界面に2次元的に閉じ込められた電磁波の状態で存在する.その際に電磁場が界面垂直方向へ数十nm程度の侵入長をもっために,InGaN系量子井戸(QW)の近傍に金属を蒸着するとQW内の励起子とSPPが共鳴し,励起子のエネルギーがSPPに変換され,その一部が光として取り出される[2-3].このSPP を介する新たな発光プロセスが,非輻射再結合に比べ速く行われることで,相対的に発光が増強されるというのがSPによるLEDの高効率化の要因である.実際に時間分解測定により発光寿命が短くなることを確認している「4-5].さらにその発光増強度はQWまで侵入したSPPの電界強度に依存しており,QWが表面に近いほどSPの増強が顕著にあらわれることも明らかにした[1].したがって実用的なLEDの構造として主に用いられる多重QWでは深部の活性層ほどSPPの侵入電界強度が弱く,共鳴による増強効果も弱くなるため,単層QWと比べ全体の増強度が低くなってしまうと予想される.
机译:我们已经证明,血浆技术可以应用于高效率LED领域,并且Ag的随机晶粒结构可以大大提高,以提高indaN的发光材料表面的发射强度高达约14倍[1]。血浆并且是近年来引起了关注的技术,该技术控制了作为在金属/介电接口处产生的电子的集体振动的表面等离子体(SP),并且近年来用于纳米光波导的近年来的注意力。金属/电介质界面表面波被称为表面等离子体Polariton(SPP),并且存在于界面处的二维限制电磁波状态。在那种情况下,IngaN系统是金属沉积在量子阱(QW)附近,QW中的激子和SPP被谐振,激子的能量转化为SPP,其中一部分被用作灯[2-3]。该SPP通过该流动过程通过该流程,所述新的发光过程的执行比非辐射重组更快是SP的高效率的效率。实际上,通过时间分辨率测量的寿命的寿命也取决于进入QW的SPP的电场强度,并且光发射增强越高,SP越多出现增强。它已被揭示[1]。因此,在多QW主要用作实际LED的结构中,深度有源层较弱,渗透电场强度越弱,并且共振增强效果变弱,使其与单层QW进行比较。预计强度的强化程度变低。

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