...
首页> 外文期刊>Журнал технической физики >Модель термического окисления кремния
【24h】

Модель термического окисления кремния

机译:模型硅热氧化

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

Миниатюризация и увеличение скорости работы электронных приборов требует получения диэлектрических пленок оксида кремния нанометровой толщины. Для создания таких структур необходимо понимание процесса начального окисления кремния. Предложена теоретическая модель термического окисления тонких монослоев кремния, учитывающая рост напряжений в переходном слое оксид — подложка по мере накопления в нем кислорода.
机译:微型化和电子设备速度的增加需要制备氧化硅纳米厚度的介电膜。 为了创造这样的结构,有必要了解硅初始氧化的过程。 提出了薄硅片热氧化的理论模型,其考虑了氧化物过渡层中应力的生长 - 氧气作为氧气累积。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号