机译:CCP-RIE系统对4掩模工艺铟镓锌氧化物和钼的干法刻蚀特性的研究
Bottom gate IGZO TFT; Dry etch; IGZO; Mo; Selectivity;
机译:CCP-RIE系统对4掩模工艺铟镓锌氧化物和钼的干法刻蚀特性的研究
机译:非晶铟镓锌氧化物薄膜的干刻蚀特性
机译:CF4 / Ar等离子体中铟镓锌氧化物薄膜的高密度等离子体刻蚀特性
机译:自对准非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管,采用双掩模工艺,无蚀刻终止层
机译:铟镓锌氧化物和锌锡氧化物薄膜晶体管的制造工艺评估和负偏压照明应力研究。
机译:同时进行紫外线和热处理活化溅射处理的铟镓锌氧化物薄膜
机译:自适应耦合等离子体中氧化铟锌薄膜的干刻蚀特性
机译:部分Iiaia金属 - 金属氧化物体系的汽化 - 铟镓氧化物(Ga O和Ga O 2中)和氧化铝镓(Ga al O)的质谱鉴定