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スパッタ法による強誘電体薄膜形成技術

机译:溅射法的铁电薄膜形成技术

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摘要

ジルコン酸チタン酸鉛(Pb,Zr)TiO_3(以下 PZT と略す)に代表される強誘電体材料は,超音波センサ,照明制御用の焦電センサ等に広く応用されている.強誘電体薄膜としては,PZT を用いたジャイロセンサ等の多くのデバイスに搭載され普及している.一方,PZT は有毒な鉛を含むため近年鉛を含まない(非鉛系や無鉛系と呼ばれている)強誘電体材料の開発が盛hとなってきている.本稿では,京都大学ナノテクノロジー拠点(以下ナノハブ)においで開発した PZT 薄膜および非鉛系の一つである(K,Na)NbO_3(以下 KNN と略す)の薄膜形成技術について報告する.
机译:由钛酸铅钛酸铅(PB,Zr)TiO_3表示的铁电材料(以下称为PZT)被广泛应用于用于照明控制的超声波传感器和热电传感器。 将铁电薄膜安装并扩散在许多诸如使用PZT的陀螺仪传感器的装置上。 另一方面,由于PZT含有有毒铅,因此无铅(称为非引导和独立系统)的发展已成为起草。 在本文中,我们报告了P​​ZT薄膜和非引导系统(K,NA)NBO_3(KNN)的薄膜形成技术,该技术是京都大学纳米技术基地(在下文中称为纳米毂)。

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