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铁电薄膜形成用组合物、铁电薄膜的形成方法及铁电薄膜

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摘要

本发明提供一种适合用于高容量密度的薄膜电容器的铁电薄膜形成用组合物、铁电薄膜的形成方法及通过该方法形成的铁电薄膜。一种用于形成PLZT等铁电薄膜的铁电薄膜形成用组合物，其特征在于，该组合物为用于形成采取混合复合金属氧化物形态的薄膜的液态组合物，所述混合复合金属氧化物在通式：(Pb

1. 铁电薄膜形成用组合物、铁电薄膜的形成方法及铁电薄膜 [P] . 中国专利： CN102219507B . 2014.12.03
2. 用于形成铁电薄膜的组合物、铁电薄膜以及铁电薄膜的制造方法 [P] . 中国专利： CN1323979C . 2007.07.04
3. Composition for ferroelectric thin film formation, method for forming ferroelectric thin film, and ferroelectric thin film formed by the method thereof [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2343268B1 . 2018-02-21

机译：铁电薄膜形成用组合物，铁电薄膜的形成方法以及通过该方法形成的铁电薄膜
4. Composition for ferroelectric thin film formation, method for forming ferroelectric thin film, and ferroelectric thin film formed by the method thereof [P] . 美国专利： US9502636B2 . 2016-11-22

机译：铁电薄膜形成用组合物，铁电薄膜的形成方法以及通过该方法形成的铁电薄膜
5. Composition for ferroelectric thin film formation, method for forming ferroelectric thin film, and ferroelectric thin film formed by the method thereof [P] . 美国专利： US9005358B2 . 2015-04-14

机译：铁电薄膜形成用组合物，铁电薄膜的形成方法以及通过该方法形成的铁电薄膜