F{sub}2レーザ用光学薄膜の吸収率·散乱率測定機

摘要

半導体の微細化が進むにつれて，露光装置の光源は水銀ランプ（g線，i線）→KrFレーザ→ArF レーザと変化してきた。現在は，100～70nm の線幅を実現する手段としてF{sub}2レーザ（波長157nm）を光源とする露光装置が有望視され，開発が進められている。 このような背景から，技術研究組合　 超先端電子技術開発機構(ASET) は新エネルギー·産業技術総合開発機構(NEDO)からの委託研究「F{sub}2レーザリソ技術の開発」を2000年3月から2年間の予定で進めてきた。 このプロジェクトの一つのテーマである「光学薄膜の開発」の中で，F{sub}2レーザを光源とした吸収率測定機と散乱率測定機を開発してきた。