机译:通过等离子体辅助原子层沉积,长距离有序的垂直III-氮化物纳米克隆阵列
Bilkent Univ UNAM Inst Mat Sci &
Nanotechnol TR-06800 Ankara Turkey;
Bilkent Univ UNAM Inst Mat Sci &
Nanotechnol TR-06800 Ankara Turkey;
Bilkent Univ UNAM Inst Mat Sci &
Nanotechnol TR-06800 Ankara Turkey;
Aljabal Algharbi Univ Dept Elect Engn Gharian Libya;
Turgut Ozal Univ Dept Elect &
Elect Engn TR-06010 Ankara Turkey;
Univ Connecticut Dept Elect &
Comp Engn 371 Fairfield Way U-4157 Storrs CT 06269 USA;
机译:通过等离子体辅助原子层沉积,长距离有序的垂直III-氮化物纳米克隆阵列
机译:氮化硅水分渗透阻挡层的低温等离子体辅助原子层沉积
机译:缓冲层的原子层沉积,用于垂直排列的碳纳米管阵列的生长。
机译:等离子体辅助原子层沉积作为铜扩散阻挡层的氮化钽薄膜的沉积和特征
机译:用于直接板衬和铜扩散阻挡层应用的钌-氮化钛混合相层的等离子体增强原子层沉积。
机译:缓冲层的原子层沉积用于垂直排列的碳纳米管阵列的生长。
机译:等离子辅助原子层沉积中的再沉积:氮化硅膜的质量受气体停留时间的影响
机译:垂直纳米线阵列的原子层沉积启用互连技术