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一种六边形有序垂直耦合等离子体阵列及其制备方法和应用

摘要

本发明涉及一种六边形有序垂直耦合等离子体阵列及其制备方法和应用,所述方法如下:S1:选用双面抛光的未掺杂硅片/板作为衬底,组装聚苯乙烯颗粒,然后将聚苯乙烯颗粒转移至衬底上,在氧气气氛下进行等离子刻蚀;S2:在S1所述衬底上沉积贵金属膜,然后除去聚苯乙烯颗粒;S3:将所述衬底通过金属辅助蚀刻得到硅纳米柱,然后再沉积一层贵金属膜,即得所述六边形有序垂直耦合等离子体阵列。本发明提供的VCPA具有六方对称性,同时在中红外区没有明显吸收。本发明提供的六边形有序垂直耦合等离子体阵列在可调谐中红外窗口或光过滤器中的应用。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):B81B1/00 申请日:20180302

    实质审查的生效

  • 2018-08-28

    公开

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