机译:双栅部几何对低功率数字设计碳纳米管场效应晶体管结构性能的影响
School of Electronics &
Communication Engineering Shri Mata Vaishno Devi University Sub Post Office SMVD University Katra 182320 India;
School of Electronics &
Communication Engineering Shri Mata Vaishno Devi University Sub Post Office SMVD University Katra 182320 India;
Electronics and Communication Engineering Department Dr. B. R. Ambedkar National Institute of Technology Jalandhar (Punjab) 144011 India;
Electronics and Communication Engineering Department NIT Srinagar 190006 India;
Subthreshold Slope; Double Gate; NanoTCAD Vides; DG-CNTFET;
机译:双栅部几何对低功率数字设计碳纳米管场效应晶体管结构性能的影响
机译:低功率电路设计中碳纳米管场效应晶体管和纳米线晶体管的比较分析
机译:栅极长度和势垒厚度对基于InP / InGaAs的双栅极金属氧化物半导体异质结构场效应晶体管(DG MOS-HFET)性能的影响
机译:双栅极隧道场效应晶体管中的梯形通道对超低功耗应用中双极性导电的影响
机译:使用碳纳米管场效应晶体管的高性能,高稳定性和低功耗SRAM设计。
机译:环境处理的水稳定的水控亚1 V n型碳纳米管场效应晶体管
机译:使用CNTFET(碳纳米管场效应晶体管)模型的低功耗应用参数缩放对低功耗应用的影响:比较评估