机译:使用高功率爆发155kHz-ICP通过电感耦合脉冲溅射(ICIS)的空间光发射特性的时间演变
Natl Inst Adv Ind Sci &
Technol Nanoelect Res Inst AIST Tsukuba Cent 2 Tsukuba Ibaraki 3058568 Japan;
Natl Inst Adv Ind Sci &
Technol Adv Mfg Res Inst 1-2-1 Namiki Tsukuba Ibaraki 3058564 Japan;
Natl Inst Adv Ind Sci &
Technol Adv Mfg Res Inst 1-2-1 Namiki Tsukuba Ibaraki 3058564 Japan;
Inductively-coupled impulse sputtering; High power impulse magnetron sputtering; HiPIMS; Inductively-coupled plasma; ICIS; Glow discharge;
机译:使用高功率爆发155kHz-ICP通过电感耦合脉冲溅射(ICIS)的空间光发射特性的时间演变
机译:大功率脉冲磁控溅射等离子体放电中离子能量的时空演化
机译:大功率脉冲磁控溅射等离子体放电中离子能量的时空演化
机译:电感耦合脉冲溅射镀镍(ICIS)
机译:使用电感耦合等离子体发射光谱法测定大烟山,苦瓜山和黑山的弗雷泽冷杉(Abies fraseri)树叶和周围土壤中的钙,镁和铝。
机译:电子自旋共振光谱与电感耦合等离子体光发射光谱对氧化铁纳米粒子生物分布分析的比较
机译:一种新颖的溅射技术:电感耦合脉冲溅射(ICIS)