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机译:大功率脉冲磁控溅射等离子体放电中离子能量的时空演化
Nanotechnology Centre for PVD Research, Materials and Engineering Research Centre, Sheffield Hallam University, S1 1WB Sheffield, United Kingdom;
rnNanotechnology Centre for PVD Research, Materials and Engineering Research Centre, Sheffield Hallam University, S1 1WB Sheffield, United Kingdom;
机译:大功率脉冲磁控溅射等离子体放电中离子能量的时空演化
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)等离子放电中离子能量分布函数(IEDF)的起源
机译:在AR / O-2混合物中调查双磁控激动反应性高功率脉冲磁控溅射放电的等离子体参数和放电不对称
机译:压力和功率对大功率脉冲磁控溅射等离子体组成和时间演化的影响
机译:大功率脉冲磁控管溅射放电的表征。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜