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ポストArFリソグラフィ技術の展望-最新の開発状況から半導体製造を検証

机译:发布ARF光刻技术前景 - 验证最新发展情况的半导体制造

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摘要

本稿では,07年12月19日に東京·神保町の学士会館において行われた,プレスジャーナル主催「第77回VLSI FORUMポストリソグラフィ技術の展望」についてレポートする。
机译:在本文中,我们将在2007年12月19日在东京和吉博科的一家举行的“第77 VLSI论坛专题技术技术”中报告新闻期刊赞助的“第77 VLSI论坛专题技术”。

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