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机译:氢化氮化硅薄膜的光学和物理化学特性:热退火的影响
Univ Kasdi Merbah Ouargla Dept Elect &
Telecommun Ouargla 30000 Algeria;
Ellipsometry; infrared spectroscopy; silicon nitride; thermal annealing;
机译:氢化氮化硅薄膜的光学和物理化学特性:热退火的影响
机译:退火对氢化非晶碳和氢化非晶氮化碳薄膜光学和化学键合性能的影响
机译:热退火对微晶氢化硅薄膜光学和光电性能的影响
机译:热退火对通过层(LBL)沉积技术制备的氢化硅(Si:H)薄膜的光学,结构和形态学性能的影响
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:用于光伏应用的退火氢化非晶氮化硅(a-SiNx:H)薄膜的光学特性
机译:非晶氢化氮化硅薄膜中的光诱导氮悬挂键。