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机译:C2F5CL基电流耦合等离子体中砷化镓的等离子体化学蚀刻
Russian Acad Sci Inst Phys Microstruct Afonino 603087 Nizhny Novgorod Russia;
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机译:C2F5CL基电流耦合等离子体中砷化镓的等离子体化学蚀刻
机译:E1'和M3'电子陷阱在电感耦合Ar等离子体处理的砷化镓中的场依赖性
机译:在等离子化学刻蚀工艺中研究气体流量对刻蚀层厚度的影响以及砷化镓各向异性场粗糙度的影响
机译:电容耦合等离子体中光学计算机断层扫描的研制,等离子体蚀刻电感耦合等离子体
机译:砷化镓背面通过芯片通孔集成,使用电感耦合等离子体蚀刻。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:电感耦合ar等离子体处理的n-砷化镓中E1'和m3'电子陷阱的场依赖性
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析