computerised tomography (CT); CCP; ICP; OES-CT; OAS-CT; rf plasma for etching;
机译:在基于扩散泵的O_2电容耦合等离子体和电感耦合等离子体中对PMMA和聚碳酸酯进行干蚀刻的比较
机译:Ar和Ar-CF4混合物中电感耦合等离子体中E-H跃迁的光学计算机断层扫描
机译:一种基于电热耦合等离子体微电流光发射光谱法的电热耦合等离子体微电流光学发射光谱法的微分性方法:与电感耦合等离子体光发射光谱比较
机译:电容耦合等离子体中光学计算机断层扫描的研制,等离子体蚀刻电感耦合等离子体
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:材料的234U / 238Pu年龄约会的高分辨率电感耦合等离子体发射光谱法和与扇形场电感耦合等离子体质谱法的比较
机译:基于ICl和IBr的化学中的电感耦合等离子体蚀刻:第二部分。 Inp,Insb,InGap和InGaas;等离子体化学和等离子体处理