电感耦合等离子体蚀刻设备及方法、蚀刻控制方法及系统

摘要

本发明提供一种电感耦合等离子体蚀刻设备及蚀刻方法、蚀刻控制方法、控制系统、服务器及存储介质，蚀刻设备包括处理腔室，内部设置有蚀刻区，用于放置需蚀刻的产品；检测装置，设置在处理腔室的上方，对蚀刻中的产品进行图形变化检测，并实时输出检测结果；以及控制系统，接收所述检测结果，并根据检测结果实时修正蚀刻设备的蚀刻参数，直至得到符合标准的所述产品。本发明实现了产品图形数据的实时监测及输出，以及设备运行参数的即时调整，最终获得的产品图形尺寸高度一致，大大提高产品的性能。检测装置及控制系统均可实现自动控制及自动调整，实现了蚀刻过程的自动化调整，由此大大缩短了蚀刻设备调整时间，提高机台的利用率。