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三井化学、下関で三フツ化窒素を来春増強~モノシランも年内増強

机译:三井化学品,Shimonoseki氮气用氮和氮气通过Shimonose-MonoSilan也增强了一年

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摘要

三井化学は、100%子会社の下関三井化学に生産委託している三フツ化窒素(NF3)を約7割増強する。 NF3は電子デバイスの製造工程で不要物除去に使用されるクリーニングガスで、下関の年産能力は現在450トンだが、2005年春をめどに750トンへ引き上げる。 同じく半導体などの絶縁膜形成に使用されるモノシラン(ガス)についても、年内をめどに下関の設備(能力は非公表)を5割程度増強したい考え。
机译:三井化工有限公司增强了大约70%的三呋喃氮(NF3),这已将100%子公司的Shimoseki Mitsui化学外包。 NF3是用于在电子设备的制造过程中不必要的清洁气体,而Shimonoseki的年生产能力目前是450吨,但2005年春天升至750吨。 同样对于用于绝缘膜形成的单硅烷(气体),如半导体,我们希望增加Shimonoseki的设施(缺乏能力)约占年底的50%。

著录项

  • 来源
    《石油化学新報》 |2004年第3860期|共1页
  • 作者

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  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 石油化学工业;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-19 22:09:58

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