首页> 外文期刊>石油化学新報 >三井化学、下関で三フツ化窒素を来春増強~モノシランも年内増強
【24h】

三井化学、下関で三フツ化窒素を来春増強~モノシランも年内増強

机译:三井化学明年春季将在下关甲硅烷增加三焦氮,到今年年底还将增加

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

三井化学は、100%子会社の下関三井化学に生産委託している三フツ化窒素(NF3)を約7割増強する。 NF3は電子デバイスの製造工程で不要物除去に使用されるクリーニングガスで、下関の年産能力は現在450トンだが、2005年春をめどに750トンへ引き上げる。 同じく半導体などの絶縁膜形成に使用されるモノシラン(ガス)についても、年内をめどに下関の設備(能力は非公表)を5割程度増強したい考え。
机译:三井化学公司将把三焦氮(NF3)的产量提高70%,而三焦氮的生产则外包给了其全资子公司三菱下关。 NF3是一种清洁气体,用于电子设备制造过程中的不必要去除,年产能为下关,但目前为450吨,下调至750吨,以开发2005年春季。还应考虑将甲硅烷(气体)用于形成绝缘膜(例如半导体),下关的设施前景(该能力尚未发布)希望将其提高约50%。

著录项

  • 来源
    《石油化学新報》 |2004年第3860期|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 石油化学工业;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-19 11:15:43

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号