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首页> 外文期刊>材料とプロセス: 日本鉄鋼協会講演論文集 >(S328)蛍光収量法による軟X 線XAFS の分析深さの検討 (2)
【24h】

(S328)蛍光収量法による軟X 線XAFS の分析深さの検討 (2)

机译:(S328)荧光产量法检测软X射线XAFS的分析深度(2)

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摘要

前報では3d 遷移金属元素のL 吸収端XAFS による分析深さを10~250nm の酸化物薄膜を用いて測定を試みた。その結果、部分電子収量法(PEY)と全電子収量法(TEY)では10nm 以下、部分蛍光収量法(PFY)ではL2 吸収端で50nm 前後と推定できた。一方、PFY のL3 吸収端では、いわゆる自己吸収によると考えられる効果が顕著で、信頼できる分析深さを求めることができなかった。そこで本報では、NiO を対象としてその薄膜を用いてL 吸収端の分析深さをPFY とともに自己吸収がないと言われる逆部分蛍光法(IPFY)2)で検討し、L 吸収端のPFY およびIPFYの吸収効果のないXAFS スペクトルを推定した結果を報告する。
机译:在先前的报告中,使用L吸收结束XAFS的3D过渡金属元素的分析深度使用具有10-250nm氧化物的氧化物薄膜。 结果,在部分电子屈服法(PEY)和总电子屈服法(Tey),10nm或更小,部分荧光产率(PFY)可以在L2吸收端估计为约50nm。 另一方面,在PFY的L3吸收端,可能的效果明显,并且无法确定可靠的分析深度。 因此,在本报告中,L吸收端的分析深度被认为是具有薄膜的NiO的靶标,并且据说没有自动吸收PFY,L吸收末端的PFY和L报告估计XAFS光谱的结果,而不具有IPFY的吸收效应。

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