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蛍光収量法による軟X線XAFSの表面分析の可能性 ――分析深さ、自己吸収効果とその対応について

机译:荧光屈服法对软X射线XAFS进行表面分析的可能性-分析深度,自吸收效应及其对应关系

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摘要

固体の表面状態分析法として,XPSが汎用的に利 用されてきている.XPSでは分析深さは数nm程度 であり,それより深い情報はArスパッターで表面 を除去しながら実施することが多い.しかしながら, Arスパッターにより多くの酸化物が還元したり, 水酸化物が酸化物に,硫化物が価数を変えたりと, 状態分析の観点では多くの問題がある[1]. 一方, 鉄鋼材料の酸化?腐食皮膜は干渉色の着色皮膜程度 でも数lOnm厚さがあり,腐食反応等を考える際に は,酸化膜全体の元素の状態を正確に把握すること が必要である.
机译:XPS已被广泛用作分析固体表面状况的方法,在XPS中,分析深度约为几纳米,在用Ar飞溅去除表面时经常执行更深的信息。但是,从状态分析的角度来看,存在许多问题,例如通过Ar溅射还原许多氧化物,将氢氧化物还原为氧化物以及将硫化物改变化合价[1]。该材料的氧化腐蚀膜即使是干涉色的有色膜也具有数个10nm的厚度,并且在考虑腐蚀反应时必须准确地掌握整个氧化膜的元素状态。

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