机译:低能量Ar +Ion轰击下SiO2表面的时间演变:溅射,质量再分配和阴影的作用
SUNAG Lab Inst Phys Bhubaneswar 751005 Odisha India;
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Univ Gottingen Inst Phys 2 D-37077 Gottingen Germany;
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ion beam; patterning; Ar-ion; mass redistribution; shadowing;
机译:低能量Ar +Ion轰击下SiO2表面的时间演变:溅射,质量再分配和阴影的作用
机译:keV离子辐照下Ge表面形貌的时间演变:曲率相关溅射腐蚀和原子再分布的综合作用
机译:低能量Ar〜+离子轰击下溅射铜单体能量分布的质谱研究
机译:在栅极金属溅射沉积中使用低能大质量离子轰击减少等离子体诱导的栅极氧化物损伤
机译:低能离子轰击铜和铝表面会溅射二次离子。
机译:在硅的低能氩离子轰击下从波纹到刻面结构的转变:了解阴影和溅射的作用
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机译:在KeV离子轰击过程中从表面溅射原子的能量成本