在U表面循环Ar^+轰击-磁控溅射离子镀Al层

摘要

用循环Ar+ 轰击 -磁控溅射离子镀 (MSIP)法在U表面上镀Al,并采用俄歇电子能谱仪 (SAM )、扫描电镜(SEM)、电化学实验和湿热腐蚀加速实验 ,研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能 ,以及U基和Al镀层界面 .结果表明 :U上循环Ar+ 轰击 -磁控溅射离子镀Al界面存在较宽的原子共混区 。