机译:反应性磁控溅射的电致变色特性由霓虹溅射WO3薄膜作为溅射气体
Indian Inst Technol Madras Dept Phys Semicond Lab Chennai 600036 Tamil Nadu India;
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Electrochromism; Tungsten Oxide; Thin Films; Sputtering; Neon;
机译:反应性磁控溅射的电致变色特性由霓虹溅射WO3薄膜作为溅射气体
机译:溅射气压对H_2O气氛中反应溅射制备羟基氧化镍薄膜电致变色性能的影响
机译:反应直流磁控溅射技术制备钒掺杂氧化钨薄膜的电致变色和光催化性能的结果
机译:反应性气体定时RF磁控溅射制备的N掺杂ZnO薄膜结构性能研究
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:WO3的结构,光学和电致色彩特性:RF磁控溅射技术制备的MOO3薄膜