机译:使用SF6 / C4F8等离子的低温蚀刻工艺应用于多孔低k材料
low-k materials; cryogenic etching; equivalent damage layer; plasma; mass spectrometry; FTIR;
机译:使用SF6 / C4F8等离子的低温蚀刻工艺应用于多孔低k材料
机译:C4F8 / Ar基蚀刻和H2基远程等离子体灰化工艺对超低k材料改性的影响
机译:等离子低温蚀刻多孔材料的机理
机译:在电感耦合等离子体反应离子蚀刻系统中使用基于SF6 / C4F8 / AR / O2的SF6 / C4F8 / AR / O2的石英的高速各向异性蚀刻
机译:用于高级互连的多孔低k电介质的机械可靠性:多孔低k电介质的不稳定性机理及其通过惰性等离子体引发的骨架结构再聚合的介导研究。
机译:在−50°C以上的条件下使用微毛细管冷凝对多孔有机硅低k进行无损等离子体刻蚀
机译:多孔材料等离子体低温蚀刻机制