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机译:CH_2F_2 / O_2 / Ar电感耦合等离子体中纳米器件的SiN_x薄膜的腐蚀特性及机理:O_2混合比的影响
Low-Temperature SiN_x; CH_2F_2 Plasma; Etching Mechanism; Polymerization;
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机译:纳米器件在CF_4 / O_2 / Ar和CHF_3 / O_2 / Ar等离子体中HfO_2薄膜的刻蚀特性及其机理
机译:Ga掺杂的ZnO薄膜在电感耦合HBr / X(X = Ar,He,N_2,O_2)等离子体中的刻蚀特性及机理
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀系统中基于SF_6 / C_4F_8 / Ar / O_2的化学物质对石英的高速各向异性刻蚀
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
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机译:使用HBr / Ar / CHF3GAS混合物的电感耦合等离子体蚀刻ZnO薄膜的蚀刻特性
机译:Cl(2)-ar混合物电感耦合等离子体中Gaas及相关化合物的反应离子束蚀刻;真空科学与技术学报B