EUVリソグラフィ用新レジスト材料開発三菱ガス化学、ネガ型サンプル出荷

摘要

三菱ガス化学は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ用の低分子フォトレジスト材料として「MGRシリーズ」を開発、ネガ塑材料である「MGR108」のサンプル出荷を開始した　波長13.5nmの極端紫外線（extreme ultraviolet）を光源に、シリコンウエハー上に回路パターンを形成するリソグラフィ技術は、2014年頃より、線幅22nm世代以降の大量生産において導入が見込まれている。