集束イオンビームによるナノ加工とマイクロマニュファクチャ

摘要

ナノ加工や超微細加工技術は、リソグラフィなどの半導体集積回路の製造技術の極限追求により発達してきたことは周知のことである。 集束イオンビーム(Focused Ion Beam: FIB)技術は、イオンビーム·リソグラフィあるいはマスクレスイオン注入の微細加工手段として開発されてきた。 このFIB装置は、局所領域の微細加工が可能であることから、透過型電子顕微鏡用薄膜試料作製に、あるいは半導体デバイスの開発や故障解析に不可欠となっている。 本報では、FIBを使えば何をつくることができるのかということについて調べるために行った基本的な加工実験とマイクロ製品の作製事例を報告する。